सिरेमिक सिलिकॉन कार्बाइड चक

सिरेमिक सिलिकॉन कार्बाइड चक उच्च शुद्धता वाले सिलिकॉन कार्बाइड सिरेमिक सामग्री से निर्मित उन्नत कार्यात्मक घटक हैं।

इन्हें विशेष रूप से अल्ट्रा{0}}उच्च वैक्यूम और चरम प्रक्रिया वातावरण में सटीक निर्धारण, समर्थन और तापीय संचालन के लिए इंजीनियर किया गया है। सेमीकंडक्टर विनिर्माण उपकरणों के लिए मुख्य उपभोग्य सामग्रियों के रूप में {{2}जैसे लिथोग्राफी मशीन, एचर और सीवीडी/पीवीडी सिस्टम के रूप में उनका प्रदर्शन सीधे चिप निर्माण परिशुद्धता, उपज दर और उत्पादन दक्षता निर्धारित करता है।

• असाधारण कठोरता और घिसाव प्रतिरोध: 9.2 से अधिक मोह कठोरता के साथ, सिलिकॉन कार्बाइड हीरे के बाद सबसे कठिन तकनीकी सिरेमिक सामग्रियों में से एक है। यह सिलिकॉन कार्बाइड उत्पादों जैसे सिलिकॉन कार्बाइड बुशिंग, सिलिकॉन कार्बाइड बीयरिंग और सिलिकॉन कार्बाइड मैकेनिकल सील को पहनने के लिए अत्यधिक प्रतिरोधी बनाता है और पहनने के प्रतिरोधी सिरेमिक अनुप्रयोगों के लिए आदर्श बनाता है।
• सुपीरियर थर्मल और रासायनिक स्थिरता: यह बेहद कम थर्मल विस्तार गुणांक प्रदर्शित करता है और निष्क्रिय वातावरण में 1650 डिग्री तक तापमान में काम कर सकता है। यह दुर्दम्य गुण, थर्मल शॉक और एसिड और क्षार से संक्षारण के उत्कृष्ट प्रतिरोध के साथ मिलकर, इसे सिलिकॉन कार्बाइड हीटिंग तत्वों, सिलिकॉन कार्बाइड सुरक्षा ट्यूबों और सीएमपी और आईसीपी प्रक्रियाओं में घटकों के लिए एकदम सही बनाता है।
• उत्कृष्ट तापीय चालकता और विद्युत ट्यूनेबिलिटी: इसकी उच्च तापीय चालकता (अक्सर उच्च तापमान पर तांबे से बेहतर) सिलिकॉन कार्बाइड प्लेटों को थर्मल प्रबंधन सब्सट्रेट के रूप में आदर्श बनाती है। इसकी विद्युत प्रतिरोधकता को सटीक रूप से इंजीनियर किया जा सकता है, जिससे इलेक्ट्रोस्टैटिक चक (ईएससी) में और पावर इलेक्ट्रॉनिक्स के लिए एक विस्तृत बैंडगैप सेमीकंडक्टर सामग्री के रूप में इसका उपयोग संभव हो सके।
• उच्च शक्ति और हल्का वजन: सिंटर्ड SiC अपेक्षाकृत कम घनत्व पर उच्च यांत्रिक शक्ति और कठोरता प्रदान करता है, जो सिलिकॉन कार्बाइड रोलर्स और पैडल जैसे घटकों के स्थायित्व और परिशुद्धता में योगदान देता है।
• विनिर्माण बहुमुखी प्रतिभा: सिलिकॉन कार्बाइड सिरेमिक को सिंटरिंग, रिएक्शन बॉन्डिंग या रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) के माध्यम से जटिल आकार में बनाया जा सकता है। सिलिकॉन कार्बाइड कोटिंग (उदाहरण के लिए, सीवीडी SiC कोटिंग) जैसी पोस्ट प्रोसेसिंग विशिष्ट अनुप्रयोगों के लिए सतह के गुणों को और बढ़ा सकती है।

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