क्या एल्यूमीनियम नाइट्राइड सिरेमिक चक उच्च तापमान प्रक्रियाओं का सामना कर सकता है

ALN सिरेमिक चक उच्च तापमान अर्धचालक और औद्योगिक अनुप्रयोगों में उनके असाधारण थर्मल और यांत्रिक गुणों के कारण उत्कृष्टता प्राप्त करता है:

चरम तापमान प्रतिरोध -क्रायोजेनिक से 1000 डिग्री (अक्रिय वायुमंडल में), एल्यूमिना (800 डिग्री तक सीमित) और पॉलिमर से बेहतर प्रदर्शन करता है।

Thermal Shock Resilience–Withstands rapid thermal cycling (ΔT >500 डिग्री \/सेकंड) क्रैकिंग के बिना, चिप निर्माण में रैपिड थर्मल प्रोसेसिंग (आरटीपी) के लिए महत्वपूर्ण।

4.5 पीपीएम\/के का कम थर्मल विस्तार -सीटीई सिलिकॉन वेफर्स (2.6 पीपीएम\/के) से निकटता से मेल खाता है, जो हीटिंग के दौरान वेफर वारपेज को कम करता है।

उच्च थर्मल चालकता - 170-200 w\/mk हीट अपव्यय एक समान वेफर तापमान (600 डिग्री पर 450 मिमी वेफर्स में ± 1 डिग्री) को बनाए रखता है।

Oxidation Resistance–Forms a protective Al₂O₃ surface layer at >हवा में 800 डिग्री, संरचनात्मक अखंडता को संरक्षित करना।

प्लाज्मा और केमिकल स्टेबिलिटी -रेसिस्ट हैलोजेन प्लास्मास (CL₂\/F₂) और MOCVD चैंबर्स में मेटल ऑर्गेनिक अग्रदूत 900 डिग्री पर।

प्रमुख अनुप्रयोग:

EUV लिथोग्राफी चरण (5nm नोड्स से कम या बराबर)

GAN एपिटैक्सी रिएक्टर (800-1100 डिग्री)

पावर डिवाइस एनीलिंग (700 डिग्री, 5min चक्र)

शून्य के साथ और<0.1μm thermal deformation, AlN chucks enable high-precision processing in advanced semiconductor fabs and LED production. Their 10x longer lifespan than traditional materials reduces downtime in 24/7 wafer fabs.

अधिक जानकारी के लिएएल्यूमीनियम नाइट्राइड सिरेमिक चकजानकारी, कृपया निम्नलिखित www.ceramicstimes.com पर जाएं