संक्षारक वातावरण में एएलएन सिरेमिक ट्यूब
एल्यूमीनियम नाइट्राइड (ALN) सिरेमिक ट्यूब असाधारण संक्षारण प्रतिरोध प्रदर्शित करते हैं, लेकिन उनका प्रदर्शन पर्यावरणीय परिस्थितियों और भौतिक शुद्धता पर निर्भर करता है:
प्रमुख लाभ
रासायनिक जड़ता
एसिड (HCL, HNO₃) को 80 डिग्री तक और अल्कलिस (NaOH) से नीचे 40 डिग्री से नीचे धातुओं के लिए, लेकिन मजबूत ठिकानों में Al₂o₃ की तुलना में थोड़ा कम मजबूत।
अर्धचालक प्लाज्मा एचर (600 डिग्री तक) में हैलोजेन गैस संक्षारण (CL₂, F₂) के लिए प्रतिरक्षा।
ऑक्सीकरण प्रतिरोध
Forms a protective Al₂O₃ surface layer at >हवा में 800 डिग्री, और गिरावट को धीमा कर दिया।
पिघला हुआ धातु प्रतिरोध
पिघले हुए एल्यूमीनियम (660 डिग्री) और तांबे (1085 डिग्री) में स्थिर, क्वार्ट्ज और ग्रेफाइट से बेहतर प्रदर्शन।
सीमा -सीमाएँ
Poor performance in hot concentrated acids (e.g., H₂SO₄ >200 डिग्री) → चरम स्थितियों के लिए SIC- लेपित ALN का उपयोग करें।
Slow hydrolysis in steam >400 डिग्री → स्टीम-समृद्ध वातावरण के लिए Y₂o₃ कोटिंग्स लागू करें।
शीर्ष अनुप्रयोग
अर्धचालक: प्लाज्मा एचर घटक
धातुकर्म: पिघले हुए धातु में थर्मोकपल म्यान
रासायनिक प्रसंस्करण: आक्रामक मीडिया के लिए सेंसर आवास
ALN सर्वश्रेष्ठ-इन-क्लास थर्मल चालकता + संक्षारण प्रतिरोध प्रदान करता है, जिससे यह कठोर औद्योगिक और उच्च तकनीक प्रणालियों के लिए आदर्श है। उचित सतह उपचार आक्रामक सेटिंग्स में भी 10 साल से अधिक सेवा जीवन का विस्तार करता है।
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